遺物：外範、帶刻畫符號範

識別資訊: 登錄號：R016694
資料類型: 主題：考古遺物
主題與關鍵字: 功能：工藝製造
描述: 形制：由三塊粘接成，為觚形器足下部之笵，內面下方折起，上方為雲雷紋，背面無紋飾，灰色，沾泥少許。背面有一劃紋。; 材質：陶
日期: 文化年代：青銅時代; 考古學文化：殷虛; 歷史年代：商(後期)
格式: 長：殘破、最大；全器 5.1 公分; 寬：殘破、最大；全器 6.7 公分; 厚：殘破、最大；全器 1.1 公分; 重量：殘破、最大；全器 32.0 公克
來源: 中央研究院數位典藏計畫---考古資料數位典藏系統（http://ndweb.iis.sinica.edu.tw/archaeo2_public/System/Artifact/Frame_Advance_Search.htm）
語言: 中文
範圍: 所屬遺跡名稱：小屯灰坑042
管理權: 中央研究院歷史語言研究所（http://www.ihp.sinica.edu.tw/）
授權聯絡窗口: 請連結至「史語所藏品圖像授權申請」網站申請授權，網址： https://copyrite.ihp.sinica.edu.tw/ihponlinec/ihponline?@@0.8397848014139848

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